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应用光学国家重点实验室举办2017年第二期应用光学论坛
2017-03-02 应光室 张广
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    31日,中科院长春光机所应用光学国家重点实验室成功举办了2017年第二期应用光学论坛。本次论坛邀请西安电子科技大学邵晓鹏教授和刘飞博士,分别作了题为《新体制光电成像技术》和《透混沌介质偏振成像探测技术》的报告。论坛由应用光学国家重点实验室副主任穆全全研究员主持,长春光机所所长助理王建立研究员等五十余位职工、学生参加了此次学术交流活动。 

  邵晓鹏从传统光学成像技术因主要以被动探测光场强度来获取图像信息而造成的成像分辨率低、成像视场小、信息解析度低以及成像环境要求高等问题出发,讲述了利用新型计算成像的方式来克服以上难题的“新体制光电成像技术”基本概念,同时深入细致地介绍了超分辨率成像技术、压缩编码孔径成像技术、基于共心球透镜阵列的宽视场高分辨率成像技术、基于散斑相关的非侵入式散射成像技术以及频域光声成像等多种新型成像方式的研究工作。 

  刘飞博士主要针对如何在水下、雾霾天、雨天等不同环境下,利用偏振方法去除背景散射光对图像对比度及分辨率的影响做了系统的论述。 

    以上诸多研究成果对实现高光学分辨率、大视场、高图像解析度、面对复杂环境的高质量成像应用奠定了坚实的理论和实验基础。报告引起了与会研究人员的广泛兴趣和热烈讨论,增强了与会人员对新体制光电成像技术的了解,拓展了大家对随机散射介质成像、超衍射极限成像和超分辨率成像、偏振成像等新型光学成像技术的视野,对研究工作中解决相关问题的技术手段具有较大的启发作用。同时,双方针对混沌介质去除背景后向散射等相关交叉点达成了初步合作意向,为开展进一步深层次的合作研究奠定了基础。  

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