5月13日下午，“大型高精度衍射光栅刻划系统研制项目”（以下简称“大光栅刻划机项目”）领导小组首次会议在长春光机所召开。长春光机所所长宣明和所长助理、国家光栅制造与应用工程技术研究中心常务副主任唐玉国分别向领导小组汇报了研究所光学加工设备情况和大光栅刻划机项目进展情况。

　　“大光栅刻划机项目”是国家重大科研装备研制项目，于2009年1月份由财政部批准立项，其总体目标为突破精密机械加工、精密光学加工、精密检测、纳米级定位精度微位移控制、高精度环境恒温和高精度防微振等一系列关键技术，研制一台具有国际领先水平的大型高精度衍射光栅刻划机。该项目涉及学科领域广，攻关内容多，多项关键技术都代表着本领域的最高水平，是对我所科研实力和创新能力的重要检验。

　　经过半年多的紧张工作，大光栅刻划机项目各方面工作已取得一定进展。大光栅刻划机系统包括光栅刻划机、温控及隔振系统、检测系统三大部分，目前光栅刻划机总体结构方案、刻划机的工作模式、控制方式以及误差分配已经确定，内部各分系统及关键技术方案基本选定并部分通过方案评审，光栅实验楼基建规划设计初步方案已经基本完成。

　　为保证项目按时保质完成，项目成立了由中科院秘书长李志刚担任组长的项目领导小组，由曾参与我国第一台光栅刻划机研制的刻划机研制专家梁浩明先生等组成技术指导委员会，由大连理工大学王立鼎院士等组成咨询顾问组，以及院项目监理委员会、项目监理组等。此外，还成立了项目管理专项办公室，由具有从事科研管理和企业管理经验的专家负责项目管理工作，形成了严密高效的组织机构。该项目预计于2012年进行项目验收。

　　领导小组对项目进展表示满意。领导小组组长、中科院秘书长李志刚指出，大光栅刻划机项目涉及学科广、攻关内容多、实施周期短、资金投入大，同时对相关行业领域的发展具有重要的示范和牵引作用，受到中科院领导和相关部门的高度重视。他希望长春光机所作为项目承担单位，要充分利用已有技术基础和资源优势，与各有关单位密切配合，克服困难、精心部署，为国家科技实力的提高做出贡献。