8月18日，我所组织专家对应聘深紫外投影光刻曝光光学系统专项组的9位符合基本条件的优先留所研究生候选人进行了考核。专家组由甘建国副所长任组长，成员由总师办及应光室相关专家组成。
　　据悉，深紫外投影光刻曝光光学系统是国家“十一五”重大科技专项项目—“极大规模IC制造装备及成套工艺”项目中的核心研究工作，为争取和承接该项研究，所务会议研究决定组建专项组，并从本所选拔部分优秀研究生优先留所充实该专项组力量。