光栅制造技术是一种超精密加工技术，光栅刻划机被称为“精密机械之王”。要达到大刻划面积和高刻划精度标准，必须要有一流的精密机械加工、精密光学加工、精密自动控制和恒温隔震技术作为前提。由于我国机械制造领域技术能力与国外存在较大差距，我国至今没有高精度大尺寸光栅的制造能力，难以满足光谱仪器行业、大科学工程和军事应用的特殊需求。“大型高精度衍射光栅刻划系统”项目以突破高精度位位移控制技术、米级行程纳米精度相位锁定技术等关键技术，研制具有自主知识产权的大型高精度衍射光栅刻划系统为目标，开展大面积高精度光栅制作技术研究，满足空天观测等国家急需领域的需求。 

　　目前，“大型高精度衍射光栅刻划系统”已完成光栅刻划机、温控及隔振系统、光栅制作工艺三大组成系统的研制工作，并在2014年10月份首次完成了连续14天的400mm*500mm、79gr/mm中阶梯光栅刻划试验。目前，正在进行设备验收申请工作，同时计划在2015年4月份进行改进提高后的400mm*500mm、79gr/mm中阶梯光栅刻划，并尽快进行课题验收准备工作。 

　　SiC是上世纪70年代发展起来的新型光学材料，由于其比刚度高、导热快等优点，在空间光学等领域具有重要的应用前景。“4米量级高精度SiC非球面反射镜集成制造系统”项目的实施，将形成具有自主知识产权的高精度大口径非球面反射镜集成制造系统，为国家重大战略需求提供可靠的技术保障，提高我国在防灾减灾、应急响应等方面的综合实力。 

　　“4米量级高精度SiC非球面反射镜集成制造系统”项目中“SiC镜坯制造分系统”已完成2.4m口径SiC整体镜坯制备，并已突破4m量级SiC镜坯素坯成型、脱脂烧结和素坯连接等关键技术；“非球面加工检测分系统”在完成设备研制基础上，已完成1.35m量级SiC非球面加工与检测、2m反射镜的精研磨等工作；“改性/镀膜分系统”在完成设备研制基础上，已完成2m口径Si改性层镀制的工艺试验、5m镀膜机Si改性层镀制的工艺试验。“4米量级高精度SiC非球面反射镜集成制造系统”计划在2015年6月底前完成项目设备验收准备工作。 

    2月初，中科院条财局局长吴建国、副局长曹凝到长春光机所检查和指导两项目的进展，并对两项目进展和取得的阶段性成果表示满意。长春光机所所长贾平表示，将会结合本所“一三五”规划，提供各方面保障，促进两个国家重大科研装备研制项目的顺利开展。